真空镀膜设备行业专家

核心产品与技术

设备特点：

1、振动式、滚筒式等多种拌料方式，粉体在溅射区域由下往上反复运动，混合均匀，粉体膜层整体包覆性良好。

2、配置圆柱旋转靶，靶材利用率高。

应用领域：

金刚石粉、陶瓷颗粒、3D打印、涂料、新能源电池、磁性材料、精细化工、催化剂、食品医药等各类原材料粉体等领域的表面改性。

设备特点：

1、卷绕系统采用超高精度伺服电机驱动，运行平稳，可实现0.5m/min至10m/min卷绕速度无级调速。特殊的导辊设计，在针对大幅宽基材时，可保证收卷平齐度在±2mm以内，收卷无褶皱、折痕。

2、对整个卷绕系统进行分段控制，在应对过长的卷绕路径时，有助于优化控制程序算法，简化控制逻辑，对稳定张力数值、保证卷绕系统运行稳定性有显著效果。

3、镀膜区进行分区设计，各分区相对隔离，可有效预防串气，因此，本设备可进行多种复合膜层制备。

4、膜层均匀性可控制在±5%以内，膜层结合力好。

5、全新的结构设计，采用前后双开门结构，可同时将卷绕系统和溅射系统移出真空腔室，方便拆卸基材、靶材和日常的维护保养。

应用领域：

本设备是专门针对高性能产品镀膜而开发的一款卷绕式真空镀膜机。本设备采用全新的结构设计，能实现前后双开门、单腔卷绕及镀膜、超高精度卷绕等功能。主要用于在柔性基材，如PET、PP、金属箔、布等基材表面镀制金属薄膜或陶瓷薄膜，适用于电磁屏蔽、柔性透明导电薄膜、氢能、复合集流体等领域。

设备特点：

1、配置高：核心零部件全进口；

2、操作省：上下料方便；

3、成本低：运行成本低，耗材使用寿命更长；

4、易调控：配套成熟的生产工艺与程序化操作；

5、可异质外延：配置偏压电源，可以提供异质外延单晶金刚石生长。

应用领域：

1、适用于制备大尺寸宝石级单晶金刚石；

2、光学级、热沉级单晶/多晶金刚石；

3、电子级单晶金刚石；

4、碳纳米管/类金刚石碳（DLC）等碳材料。

设备特点：

1、无坩埚污染，合金纯净

2、电磁搅拌，成分均匀准确

3、熔炼温度高，可达到3600℃

4、适合活泼及高熔点金属熔炼

5、坩埚烧损较小，重复利用可达上万次

应用领域：

1、活泼金属熔炼，如稀土金属和合金，Ti及其合金，铀土、碱土金属及合金。

2、高纯金属及合金制备，如高纯靶材、镀膜材料、太阳能级多晶硅、高纯金属等。

3、高精度成分合金及高熵合金制备，如金属间化合物、微合金化材料、含弥散相材料等。

4、高熔点难熔金属及其合金制备，如Cr、Zr、V、Hf、Nb、Mo、Ta、W等难熔金属和合金，Pt、Rh、lr等贵金属和合金，科研合金制备，对材料纯度、成分精度和均匀性要求高，期望排除杂质和其它元素干扰。

产品特点：

1、方便操作：装、卸模具精度高，操作方便；

2、设计优化好：温度分布经热态模拟计算，极高的温度均匀性；

3、升温快：升温速率≥10℃~15℃/min;

4、温度均匀性好：平均温度均匀性±1℃以内≥600℃时;

5、压力精度高：采用伺服液压控制系统，压力精度为≤±3‰;

6、安全性能好：采用工控机+PLC+PID压力传感控制，安全可靠；

7、密封性能好：上下动态压头均采用波纹管密封，确保不漏气；

8、冷却速度快：设备可选配外循环快速冷却系统，配置快速冷却系统，保证工件热压完毕快速冷却，提高生产效率。

应用领域：

真空热压烧结炉广泛应用于金刚石复合散热材料、氧化锯/碳化硅/碳化硼/氮化硼或陶瓷类材料、铜基/铝基/铁基等各类金属复合粉体材料等不同材料的零件净近成型、均匀性、强化、致密化处理等。